从所有权归属来看，专利有企业专利和个人专利；从专利类型来看，专利有发明专利、实用新型专利和外观设计专利。下文为大家总结了企业专利和个人专利的区别，以及不同类型的申请专利时需提交的申请文件。
企业专利和个人专利的区别
1、所有权归属及纠纷
（1）公司申请，权益就归公司所有，基本上没什么权属纠纷。
（2）个人申请专利权归个人所有，与公司无关，如果是职务发明由个人申请，容易产生专利权属纠纷。
2、专利申请费用减免
（1）以公司名义申请，要想享受税务减免，要求上年度应纳税所得额低于100万元。
（2）申请个人专利，只要提供个人收入证明，证明上年度收入低于6万元，就能享受到专利申请费用的减免。
3、带来的好处
（1）用企业名义申请专利，更多针对的是在公司经营方面，如防止产品技术被他人抄袭模仿、提升产品的核心竞争力、享受政府补助、有利于申报各种政府项目等。此外，以企业名义申请专利比较有利于品牌宣传，也可用于后期融资。
（2）用个人名义申请专利，对落户积分、技术移民、职称评审、技术入股公司等都是有好处的。
申请专利
不同类型专利应提交的申请文件
1、实用新型专利
申请文件包括实用新型专利请求书、说明书、说明书附图、权利要求书、摘要及其附图，各一式两份。
2、发明专利
申请文件包括发明专利请求书、说明书（必要时要有附图）、权利要求书、摘要及其附图，各一式两份。
如果发明专利涉及氨基酸或核苷酸序列，说明书中应包括该序列表，并在提交时将该序列表作为说明书的一个单独部分，同时还要提交符合国家知识产权局规定的记载有该序列表的光盘或软盘。
3、外观设计专利
申请文件包括外观设计专利请求书、或照片，各一式两份。如果要求保护色彩，还应提交彩色和黑白或照片各一份。如果提交照片，两份均应为照片，如果提交，两份则均应为，或照片不能混用。或照片需要进行说明的，应提交外观设计简要说明，一式两份。
专利挖掘与专利布局有哪些基本方法
专利挖掘是指有意识地对创新成果进行创造性的剖析和甄选，进而从最合理的权利保护角度确定用以申请专利的技术创新点和技术方案的过程。
专利挖掘的概念属性
1、技术性：从创新成果发掘技术创新点，再从技术创新点梳理技术方案，技术思维贯穿整个专利挖掘过程。
2、创造性：专利挖掘往往需要对繁复的创新成果进行剖析、拆分、筛选以及合理推测，是一种技巧性很强的创造性劳动。
3、权利性：专利挖掘的最终目的是对创新或研发成果进行权利要求的最大化，获得保护最合理、最充分的专利权。
4、主动性：就像采矿一样，高质量专利权的产出必须基于“专利挖掘师”的有意识的主动“挖掘”行为。
常见的专利挖掘类型
企业中只要有可能出现创新的环节，都是专利挖掘工作关注的对象，这些环节也是专利挖掘工作的“资源”。
专利规避设计
规避设计（Design Around）,又称回避设计，专利规避设计的直接和根本目标是绕开现有专利的保护范围，在专利检索的基础上，对同领域现有专利的保护范围进行解读，避免研发产品落入已有专利的保护范围。专利规避设计不仅要避免相同侵权，也要避免等同侵权。因此，规避设计方案必须具备足够的差异性，差异程度较小的规避产品仍然存在等同侵权的风险。
专利挖掘的常见方法
企业的研发流程可以分为以下五个阶段，各个阶段都可进行专利挖掘。
研发规划
✪研发部门对产品进行行业技术分析 + 企业自有技术分析→发现现有技术存在的缺陷和问题→寻找技术改进点
布局空白点
✪销售部门对行业的整体市场进行分析→确定研发方向和产品基本功能→寻找基本功能实现的可专利点
研发立项
产品设计的可行性分析：
✪对于侵权风险较大的设计，采用规避设计方案进行专利挖掘
✪对于无法绕开的专利，采用包绕设计方案进行专利挖掘
项目研发
从产品组成（技术要素）到产品整体（包括外形、组装工具、组装方法等）都可以进行专利挖掘。
产品测试
包括零部件的工艺性、功能性、稳定性、安全性测试等）和整体系统性测试都可做专利挖掘。
生产上市
小批量生产和客户测试反馈中发现新的制造工艺、仓储、运输等环节中的缺陷，形成新的技术改进点。
专利布局
包括地雷式布局和围墙式布局。
地雷式布局是指以点的方式进行布局；
围墙式布局是指以面的方式进行布局。
✪地雷式布局只能保护产品在被竞争对手抄袭时通过专利追究侵权方的责任；
✪但无法阻止竞争对手采用地雷式布局中的不同于专利来做同样的或者类似的产品，此时就需要通过围墙式布局来进行补充。
围墙式布局优势
围墙式布局可以弥补地雷式布局中可能存在的疏漏，提高专利壁垒的强度，大大增加竞争对手规避设计的难度，是企业需要倍加重视并掌握的一种重要的专利布局方式。